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簡(jiǎn)要描述:德國EPK代理推薦GALVANOTEST測(cè)厚儀涂層厚度計(jì)Galvano Test有兩種型號(hào):GalvanoTest 2000:電解質(zhì)通過脈動(dòng)噴嘴移動(dòng)GalvanoTest 3000:通過循環(huán)泵移動(dòng)的大電解液體積可實(shí)現(xiàn)快速連續(xù)測(cè)量。 適合用于非常小的部件和測(cè)量金層。
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品牌 | ElektroPhysik/德國EPK |
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德國EPK代理推薦GALVANOTEST測(cè)厚儀
GalvanoTest供應(yīng)兩個(gè)型號(hào):GalvanoTest 2000是基礎(chǔ)型號(hào),無需其他任何附件測(cè)量各種涂層/基體組合?;谑褂梅奖愕脑O(shè)計(jì),該型號(hào)通常被推薦用于多層測(cè)量。
倘若用GalvanoTest 3000測(cè)量更方便。其測(cè)量支架集成電解泵,可全自動(dòng)移除和補(bǔ)充電解液,并且易于更換電解池,使電解液像填充物一樣可以大批量的用于去鍍處理??梢再徺I另外的電解池給不同的電解液用,在多層測(cè)量時(shí)快速切換。3000型的進(jìn)一步優(yōu)勢(shì):即使0.25m㎡的小面積,也可以輕松測(cè)量沒用問題。
測(cè)量原理
根據(jù)法拉第定律的原理,GalvanoTest對(duì)樣品特定區(qū)域進(jìn)行電解溶解。電解池裝滿用于選定鍍層/基體組合的特殊電解液。電解池放在測(cè)量樣品上。在電解池和測(cè)試樣品之間插入密封墊防止液體流出
并同時(shí)確定除鍍面積,例如1m㎡。儀器準(zhǔn)備使用并連接主機(jī)?,F(xiàn)在,通過電解液利用電化學(xué)反應(yīng)溶解
的涂層區(qū)域。一旦溶解完成,特定的電位變化會(huì)自動(dòng)停止去鍍過程并在顯示屏上以μm或者mils顯示鍍層厚度。
德國EPK代理推薦GALVANOTEST測(cè)厚儀
德國EPK公司(EPK ElektroPhysik)總部位于德國科隆,是一家專門開發(fā)和生產(chǎn)各種用于表面處理行業(yè)的測(cè)量?jī)x器公司,至今已有有超過60年的歷史,公司一直致力于測(cè)厚類產(chǎn)品的開發(fā)和研究工作,是世界上zui早生產(chǎn)測(cè)厚產(chǎn)品的公司之一,研發(fā)和生產(chǎn)了品種繁多的的測(cè)量?jī)x器。作為無損檢測(cè)厚度行業(yè)的*,德國ElektroPhysik公司多年來一直致力于防腐層檢測(cè),特別是涂層測(cè)厚儀的產(chǎn)品更是遠(yuǎn)銷*,電火花檢測(cè)儀占有世界50%的*。而且,ElektroPhysik公司與各標(biāo)準(zhǔn)化組織和研究院一道,成功地推進(jìn)了涂層厚度測(cè)量在世界范圍內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化進(jìn)程。至今,EPK在世界各地都設(shè)有自己的分支機(jī)構(gòu)和經(jīng)銷商。
GalvanoTest庫侖鍍層測(cè)厚儀主要有三個(gè)部分組成:
1. 電解池
對(duì)于測(cè)量平面和曲率半徑超過3mm的曲面,有兩種不同的電解池。一種電解池帶循環(huán)泵與
GalvanoTest 3000型連接使用,另一種電解池帶空氣泵與GalvanoTest 2000型連接使用。
使用電解杯測(cè)量金屬絲或小部件,可以使其浸到電解液中。兩個(gè)型號(hào)都
可以使用電解杯。
測(cè)量金屬絲和小部件的電解杯
2. 支架
支架適當(dāng)?shù)貖A住測(cè)試樣品,使得電解池可以在測(cè)試樣品上定位。電解池分配泵附屬于任一支架或儀器。 MiniPrint數(shù)據(jù)打印機(jī),即時(shí)打印讀值,統(tǒng)計(jì)值和電解池電壓曲線
3. 過程單元
帶交互式LCD的GalvanoTest是基于微處理器的儀器。它適用于測(cè)量各種電鍍件。測(cè)量時(shí)可以通過
觸摸面板輸入并顯示在一個(gè)大的字母數(shù)字顯示器上。GalvanoTest的各種數(shù)據(jù)接口可以連接外接設(shè)備,
如PC,打印機(jī)或Y-T記錄儀。
吉馨儀器(上海)有限公司擁有源自美國、英國、德國等多地區(qū)的合作伙伴,憑借種類齊全的產(chǎn)品資源和服務(wù),始終努力為客戶解決日新月異的測(cè)量分析技術(shù)挑戰(zhàn),精選測(cè)量方法和選擇產(chǎn)品,共同提供用戶的定制化系統(tǒng)解決方案,有效推動(dòng)企業(yè)實(shí)現(xiàn)既定目標(biāo)。
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